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    技術(shù)文章

    IGBT - 簡(jiǎn)介/IGBT - 原理/IGBT - 導(dǎo)通/IGBT - 關(guān)斷/IGBT - 動(dòng)態(tài)特性

    IGBT - 簡(jiǎn)介

    IGBT IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor),絕緣柵極型功率管,是由BJT(雙極型三極管)和MOS(絕緣柵型場(chǎng)效應(yīng)管)組成的復(fù)合全控型電壓驅(qū)動(dòng)式電力電子器件。應(yīng)用于交流電機(jī)、變頻器、開(kāi)關(guān)電源、照明電路、牽引傳動(dòng)等領(lǐng)域。

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    IGBT - 原理

    IGBT是強(qiáng)電流、高壓應(yīng)用和快速終端設(shè)備用垂直功率MOSFET的自然進(jìn)化。由于實(shí)現(xiàn)一個(gè)較高的擊穿電壓BVDSS需要一個(gè)源漏通道,而這個(gè)通道卻具有很高的電阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)數(shù)值高的特征,IGBT消除了現(xiàn)有功率MOSFET的這些主要缺點(diǎn)。雖然*新一代功率MOSFET器件大幅度改進(jìn)了RDS(on)特性,但是在高電平時(shí),功率導(dǎo)通損耗仍然要比IGBT 技術(shù)高出很多。較低的壓降,轉(zhuǎn)換成一個(gè)低VCE(sat)的能力,以及IGBT的結(jié)構(gòu),同一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)雙極器件相比,可支持更高電流密度,并簡(jiǎn)化IGBT驅(qū)動(dòng)器的原理圖。IGBT基本結(jié)構(gòu)見(jiàn)圖1中的縱剖面圖及等效電路。??

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    IGBT - 導(dǎo)通

    ?IGBT硅片的結(jié)構(gòu)與功率MOSFET 的結(jié)構(gòu)十分相似,主要差異是IGBT增加了P+ 基片和一個(gè)N+緩沖層(NPT-非穿通-IGBT技術(shù)沒(méi)有增加這個(gè)部分)。如等效電路圖所示(圖1),其中一個(gè)MOSFET驅(qū)動(dòng)兩個(gè)雙極器件?;膽?yīng)用在管體的P+和N+區(qū)之間創(chuàng)建了一個(gè)J1結(jié)。??

    當(dāng)正柵偏壓使柵極下面反演P基區(qū)時(shí),一個(gè)N溝道形成,同時(shí)出現(xiàn)一個(gè)電子流,并完全按照功率MOSFET的方式產(chǎn)生一股電流。如果這個(gè)電子流產(chǎn)生的電壓在0.7V范圍內(nèi),那么,J1將處于正向偏壓,一些空穴注入N-區(qū)內(nèi),并調(diào)整陰陽(yáng)極之間的電阻率,這種方式降低了功率導(dǎo)通的總損耗,并啟動(dòng)了**個(gè)電荷流。*后的結(jié)果是,在半導(dǎo)體層次內(nèi)臨時(shí)出現(xiàn)兩種不同的電流拓?fù)洌阂粋€(gè)電子流(MOSFET 電流); 空穴電流(雙極)。??

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    IGBT - 關(guān)斷

    ??當(dāng)在柵極施加一個(gè)負(fù)偏壓或柵壓低于門限值時(shí),溝道被禁止,沒(méi)有空穴注入N-區(qū)內(nèi)。在任何情況下,如果MOSFET電流在開(kāi)關(guān)階段迅速下降,集電極電流則逐漸降低,這是因?yàn)閾Q向開(kāi)始后,在N層內(nèi)還存在少數(shù)的載流子(少子)。這種殘余電流值(尾流)的降低,完全取決于關(guān)斷時(shí)電荷的密度,而密度又與幾種因素有關(guān),如摻雜質(zhì)的數(shù)量和拓?fù)?,層次厚度和溫度。少子的衰減使集電極電流具有特征尾流波形,集電極電流引起以下問(wèn)題:功耗升高;交叉導(dǎo)通問(wèn)題,特別是在使用續(xù)流二極管的設(shè)備上,問(wèn)題更加明顯。??

    鑒于尾流與少子的重組有關(guān),尾流的電流值應(yīng)與芯片的溫度、IC和VCE密切相關(guān)的空穴移動(dòng)性有密切的關(guān)系。因此,根據(jù)所達(dá)到的溫度,降低這種作用在終端設(shè)備設(shè)計(jì)上的電流的不理想效應(yīng)是可行的,尾流特性與VCE、IC和 TC之間的關(guān)系如圖2所示。??

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    IGBT - 反向阻斷

    當(dāng)集電極被施加一個(gè)反向電壓時(shí), J1就會(huì)受到反向偏壓控制,耗盡層則會(huì)向N-區(qū)擴(kuò)展。因過(guò)多地降低這個(gè)層面的厚度,將無(wú)法取得一個(gè)有效的阻斷能力,所以,這個(gè)機(jī)制十分重要。另一方面,如果過(guò)大地增加這個(gè)區(qū)域尺寸,就會(huì)連續(xù)地提高壓降。??
    **點(diǎn)清楚地說(shuō)明了NPT器件的壓降比等效(IC 和速度相同) PT 器件的壓降高的原因。??

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    IGBT - 正向阻斷

    當(dāng)柵極和發(fā)射極短接并在集電極端子施加一個(gè)正電壓時(shí),P/NJ3結(jié)受反向電壓控制。此時(shí),仍然是由N漂移區(qū)中的耗盡層承受外部施加的電壓。??

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    IGBT - 閂鎖

    IGBT在集電極與發(fā)射極之間有一個(gè)寄生PNPN晶閘管,如圖1所示。在特殊條件下,這種寄生器件會(huì)導(dǎo)通。這種現(xiàn)象會(huì)使集電極與發(fā)射極之間的電流量增加,對(duì)等效MOSFET的控制能力降低,通常還會(huì)引起器件擊穿問(wèn)題。晶閘管導(dǎo)通現(xiàn)象被稱為IGBT閂鎖,具體地說(shuō),這種缺陷的原因互不相同,與器件的狀態(tài)有密切關(guān)系。通常情況下,靜態(tài)和動(dòng)態(tài)閂鎖有如下主要區(qū)別:??

    當(dāng)晶閘管全部導(dǎo)通時(shí),靜態(tài)閂鎖出現(xiàn)。??
    只在關(guān)斷時(shí)才會(huì)出現(xiàn)動(dòng)態(tài)閂鎖。這一特殊現(xiàn)象嚴(yán)重地限制了**操作區(qū) 。??
    為防止寄生NPN和PNP晶體管的有害現(xiàn)象,有必要采取以下措施:??
    防止NPN部分接通,分別改變布局和摻雜級(jí)別。??
    降低NPN和PNP晶體管的總電流增益。??
    此外,閂鎖電流對(duì)PNP和NPN器件的電流增益有一定的影響,因此,它與結(jié)溫的關(guān)系也非常密切;在結(jié)溫和增益提高的情況下,P基區(qū)的電阻率會(huì)升高,破壞了整體特性。因此,器件制造商必須注意將集電極*大電流值與閂鎖電流之間保持一定的比例,通常比例為1:5。??

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    IGBT - 正向?qū)ㄌ匦?/h2>

    在通態(tài)中,IGBT可以按照“**近似”和功率MOSFET驅(qū)動(dòng)的PNP晶體管建模。圖3所示是理解器件在工作時(shí)的物理特性所需的結(jié)構(gòu)元件(寄生元件不考慮在內(nèi))。??

    如圖所示,IC是VCE的一個(gè)函數(shù)(靜態(tài)特性),假如陰極和陽(yáng)極之間的壓降不超過(guò)0.7V,即使柵信號(hào)讓MOSFET溝道形成(如圖所示),集電極電流IC也無(wú)法流通。當(dāng)溝道上的電壓大于VGE-Vth時(shí),電流處于飽和狀態(tài),輸出電阻無(wú)限大。由于IGBT結(jié)構(gòu)中含有一個(gè)雙極MOSFET和一個(gè)功率MOSFET,因此,它的溫度特性取決于在屬性上具有對(duì)比性的兩個(gè)器件的凈效率。功率MOSFET的溫度系數(shù)是正的,而雙極的溫度系數(shù)則是負(fù)的。本圖描述了VCE(sat)作為一個(gè)集電極電流的函數(shù)在不同結(jié)溫時(shí)的變化情況。當(dāng)必須并聯(lián)兩個(gè)以上的設(shè)備時(shí),這個(gè)問(wèn)題變得十分重要,而且只能按照對(duì)應(yīng)某一電流率的VCE(sat)選擇一個(gè)并聯(lián)設(shè)備來(lái)解決問(wèn)題。有時(shí)候,用一個(gè)NPT進(jìn)行簡(jiǎn)易并聯(lián)的效果是很好的,但是與一個(gè)電平和速度相同的PT器件相比,使用NPT會(huì)造成壓降增加。??

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    IGBT - 動(dòng)態(tài)特性

    動(dòng)態(tài)特性是指IGBT在開(kāi)關(guān)期間的特性。鑒于IGBT的等效電路,要控制這個(gè)器件,必須驅(qū)動(dòng)MOSFET元件。??

    這就是說(shuō),IGBT的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)實(shí)際上應(yīng)與MOSFET的相同,而且復(fù)雜程度低于雙極驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)。如前文所述,當(dāng)通過(guò)柵極提供柵正偏壓時(shí),在MOSFET部分形成一個(gè)N溝道。如果這一電子流產(chǎn)生的電壓處于0.7V范圍內(nèi),P+ / N-則處于正向偏壓控制,少數(shù)載流子注入N區(qū),形成一個(gè)空穴雙極流。導(dǎo)通時(shí)間是驅(qū)動(dòng)電路的輸出陰抗和施加的柵極電壓的一個(gè)函數(shù)。通過(guò)改變柵電阻Rg(圖4)值來(lái)控制器件的速度是可行的,通過(guò)這種方式,輸出寄生電容Cge和 Cgc可實(shí)現(xiàn)不同的電荷速率。??

    換句話說(shuō),通過(guò)改變 Rg值,可以改變與Rg (Cge+C**)值相等的寄生凈值的時(shí)間常量(如圖4所示),然后,改變*V/dti。數(shù)據(jù)表中常用的驅(qū)動(dòng)電壓是15V。一個(gè)電感負(fù)載的開(kāi)關(guān)波形見(jiàn)圖5,di/dt是Rg的一個(gè)函數(shù),如圖6所示,柵電阻對(duì)IGBT的導(dǎo)通速率的影響是很明顯的。??

    因?yàn)镽g數(shù)值變化也會(huì)影響dv/dt斜率,因此,Rg值對(duì)功耗的影響很大 。??
    在關(guān)斷時(shí),再次出現(xiàn)了我們?cè)诰哂泄β蔒OSFET和 BJT器件雙重特性的等效模型中討論過(guò)的特性。當(dāng)發(fā)送到柵極的信號(hào)降低到密勒效應(yīng)初始值時(shí),VCE開(kāi)始升高。如前文所述,根據(jù)驅(qū)動(dòng)器的情況,VCE達(dá)到*大電平而且受到Cge和Cgc的密勒效應(yīng)影響后,電流不會(huì)立即歸零,相反會(huì)出現(xiàn)一個(gè)典型的尾狀,其長(zhǎng)度取決于少數(shù)載流子的壽命。??

    在IGBT處于正偏壓期間,這些電荷被注入到N區(qū),這是IGBT與MOSFET開(kāi)關(guān)對(duì)比*不利特性之主要原因。降低這種有害現(xiàn)象有多種方式。例如,可以降低導(dǎo)通期間從P+基片注入的空穴數(shù)量的百分比,同時(shí),通過(guò)提高摻雜質(zhì)水平和緩沖層厚度,來(lái)提高重組速度。由于VCE(sat)增高和潛在的閂鎖問(wèn)題,這種排除空穴的做**降低電流的處理能力。??

    **運(yùn)行區(qū)SOA??

    按電流和電壓劃分,一個(gè)IGBT的**運(yùn)行區(qū)可以分為三個(gè)主要區(qū)域,如下表所示:??

    這三個(gè)區(qū)域在圖8中很容易識(shí)別 。??

    通常每一張數(shù)據(jù)表都提供了正向?qū)?正向偏置**運(yùn)行區(qū)FBSOA)、反向(反向偏置**運(yùn)行區(qū)RBSOA)和短路(短路**運(yùn)行SCSOA)時(shí)描述強(qiáng)度的曲線。??

    詳細(xì)內(nèi)容:??

    FBSOA??

    這部分**運(yùn)行區(qū)是指電子和空穴電流在導(dǎo)通瞬態(tài)時(shí)流過(guò)的區(qū)域。在IC處于飽和狀態(tài)時(shí),IGBT所能承受的*大電壓是器件的物理極限,如圖8所示。??

    RBSOA??

    這個(gè)區(qū)域表示柵偏壓為零或負(fù)值但因空穴電流沒(méi)有消失而IC依然存在時(shí)的關(guān)斷瞬態(tài)。如前文所述,如果電流增加過(guò)多,寄生晶體管會(huì)引發(fā)閂鎖現(xiàn)象。當(dāng)閂鎖發(fā)生時(shí),柵極將無(wú)法控制這個(gè)器件。*新版的IGBT沒(méi)有這種類型的特性,因?yàn)樵O(shè)計(jì)人員改進(jìn)了IGBT的結(jié)構(gòu)及工藝,寄生SCR的觸發(fā)電流較正常工作承受的觸發(fā)電流(典型Ilatch>5IC 正常)高出很多。關(guān)于閉鎖電流分別作為結(jié)溫和柵電阻的一個(gè)函數(shù)的變化情況,見(jiàn)圖9和10。??

    SCSOA??

    SCSOA是在電源電壓條件下接通器件后所測(cè)得的驅(qū)動(dòng)電路控制被測(cè)試器件的時(shí)間*大值。圖11所示是三個(gè)具有等效特性但采用不同技術(shù)制造的器件的波形及關(guān)斷時(shí)間。??

    *大工作頻率??

    開(kāi)關(guān)頻率是用戶選擇適合的IGBT時(shí)需考慮的一個(gè)重要的參數(shù),所有的硅片制造商都為不同的開(kāi)關(guān)頻率專門制造了不同的產(chǎn)品。??

    特別是在電流流通并主要與VCE(sat)相關(guān)時(shí),把導(dǎo)通損耗定義成功率損耗是可行的。??

    這三者之間的表達(dá)式:Pcond = VCE IC ,其中, 是負(fù)載系數(shù)。??
    開(kāi)關(guān)損耗與IGBT的換向有關(guān)系;但是,主要與工作時(shí)的總能量消耗Ets相關(guān),并與終端設(shè)備的頻率的關(guān)系更加緊密。??

    Psw = Ets??
    總損耗是兩部分損耗之和:??
    Ptot = Pcond + Psw??
    在這一點(diǎn)上,總功耗顯然與Ets 和 VCE(sat)兩個(gè)主要參數(shù)有內(nèi)在的聯(lián)系。??

    這些變量之間適度的平衡關(guān)系,與IGBT技術(shù)密切相關(guān),并為客戶*大限度降低終端設(shè)備的綜合散熱提供了選擇的機(jī)會(huì)。??

    因此,為*大限度地降低功耗,根據(jù)終端設(shè)備的頻率,以及與特殊應(yīng)用有內(nèi)在聯(lián)系的電平特性,用戶應(yīng)選擇不同的器件。??

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